全芯片设计光刻修正软件

项目简介

项目致力于开发具有自主知识产权的全芯片设计光学修正软件,主要用来弥补光刻机波长和所制造的芯片线宽(如14纳米)的差距,解决目前光刻机在分辨率方面的局限性。

 

核心创新点:

壁垒高:多学科,多领域的综合性技术

精度高:自动布放次分辨率,远超现有精度

补空白:基于人工智能的高效修正算法

 

应用领域:

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